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近日，台积电宣布他们使用EUV（极紫外光刻）在第二代7nm技术“N7+”上取得了良好的进展，预计新技术将使芯片功耗降低6-12％，密度提高20％，这对众多和台积电有合作关系的芯片巨头来说是个利好消息。 据了解，“N7+”并未完全采用EUV工艺，而是仅限其中的四个非关键层，可以说是台积电在应用EUV技术上的“小试牛刀”，这也给他们预留了充足的时间去发掘如何更好的利用新技术来提高产能并解决可能遇到的问题。
7nm之后台积电的目标是5nm，内部称为“N5”。新工艺将在最多14层上应用EUV，预计将于2019年4月开始风险生产。根据台积电的说法，除了PCIe Gen 4和USB 3.1之外，它们的许多IP模块已经为N5做好了准备。
台积电在EUV技术上的良好进展也使得公司今年Q3季度的收入取得了不错的成绩，报告称公司2018年第三季度的综合收入为2.630亿新台币，电讯资讯网
，约合841万美元，比上一季度增长11.6％，同比增长3.2％。市场观察人士表示，台积电第三季度的收入好于预期。
根据此前的消息，随着联电、GlobalFoundries先后退出先进工艺竞赛的行列，全球目前有能力研发7nm及以下工艺的仅剩下台积电、三星及英特尔三家，而台积电在7nm、5nm上的进展相比其他两家都要顺利。 本文属于原创文章，如若转载，请注明来源：EUV工艺进展良好 台积电2018年Q3收入增长11.6%
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近日，台积电宣布他们使用EUV（极紫外光刻）在第二代7nm技术“N7+”上取得了良好的进展，每日电讯网，预计新技术将使芯片功耗降低6-12％，密度提高20％，这对众多和台积电有合作关系的芯片巨头来说是个利好消息。 据了解，“N7+”并未完全采用EUV工艺，而是仅限其中的四个非关...
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