竣工典礼上,无锡市委书记李小敏、江苏省副省长郭元强、韩国驻上海总领事崔泳杉、SK海力士公司总裁李锡熙和相助商总裁等500人出席了勾当,为SK海力士的后续成长起到了重大浸染,扩建后,典礼上公布在原有DRAM半导体流水线C2的基本长举办扩建,每日电讯网,业内人士暗示:“这次扩建后无锡工场的DRAM产能从本来的12万张晶片提高到了18万张,C2F将与此刻的C2工场一同运转, 【CNMO新闻】SK海力士4月18日在无锡进行DRAM流水线C2F的竣工典礼, 图片来自海力士 SK海力士无锡工场认真人姜英秀暗示:“C2F的竣工使无锡工场拥有了中恒久竞争力,最大限度扩大无锡工场的出产和运转效率”。
图片来自海力士 2004年SK海力士与无锡市签署建厂协议,” ,修建面积将到达5.8万平方米,并于2006年开始出产DRAM,其时建成的C2流水线是SK海力士第一个300毫米晶片工场(FAB是半导体工场的通称),每日电讯网,SK海力士投资扩建半导体出产厂房(无尘车间),。
从2017年6月开始,产能占SK海力士DRAM总产能的比例提高到40至50%。 |