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竣工典礼上，无锡市委书记李小敏、江苏省副省长郭元强、韩国驻上海总领事崔泳杉、SK海力士公司总裁李锡熙和相助商总裁等500人出席了勾当，为SK海力士的后续成长起到了重大浸染，扩建后，典礼上公布在原有DRAM半导体流水线C2的基本长举办扩建，每日电讯网，业内人士暗示：“这次扩建后无锡工场的DRAM产能从本来的12万张晶片提高到了18万张，C2F将与此刻的C2工场一同运转， 【CNMO新闻】SK海力士4月18日在无锡进行DRAM流水线C2F的竣工典礼， 图片来自海力士 SK海力士无锡工场认真人姜英秀暗示：“C2F的竣工使无锡工场拥有了中恒久竞争力，最大限度扩大无锡工场的出产和运转效率”。
图片来自海力士 2004年SK海力士与无锡市签署建厂协议，” ，修建面积将到达5.8万平方米，并于2006年开始出产DRAM，其时建成的C2流水线是SK海力士第一个300毫米晶片工场(FAB是半导体工场的通称)，每日电讯网，SK海力士投资扩建半导体出产厂房(无尘车间)，。
从2017年6月开始，产能占SK海力士DRAM总产能的比例提高到40至50%。 | 
